據(jù)臺(tái)灣《聯(lián)合報(bào)》1月6日?qǐng)?bào)道，臺(tái)灣檢方偵辦臺(tái)積電2納米核心關(guān)鍵技術(shù)竊密案，查出前工程師陳力銘跳槽日本企業(yè)東京威力科創(chuàng)公司后，為得知“蝕刻機(jī)臺(tái)”量產(chǎn)測(cè)試數(shù)據(jù)，買通時(shí)任工程師吳秉駿、戈一平竊取參數(shù)配方，2025年起訴3人。檢方偵辦期間，臺(tái)積電另一名陳姓工程師涉竊取核心技術(shù)給陳力銘，東京威力科創(chuàng)盧姓員工也涉湮滅證據(jù)，對(duì)3人及東京威力追加起訴。
據(jù)報(bào)道，起訴指出，陳力銘偵查中坦承犯行，供出陳姓共犯，讓檢方順利查獲陳男，因此求處7年徒刑。陳姓共犯犯后態(tài)度欠佳，求處有期徒刑8年8個(gè)月。
盧姓員工知悉陳力銘遭臺(tái)積電發(fā)覺犯行后，刪除陳力銘上傳相關(guān)檔案，有妨害刑事案件調(diào)查行為，且犯后否認(rèn)犯案，求處1年徒刑。東京威力公司于本案查證過程中，提供相關(guān)事證配合調(diào)查，對(duì)厘清案情尚有助益，求處罰金2500萬元新臺(tái)幣（1元新臺(tái)幣約合0.22元人民幣——本網(wǎng)注）。
報(bào)道稱，臺(tái)檢方指出，檢察官偵辦期間，發(fā)覺該公司云端硬盤內(nèi)，尚存有臺(tái)積電核心關(guān)鍵技術(shù)項(xiàng)，也就是“14納米以下制程技術(shù)及其關(guān)鍵氣體、化學(xué)品及設(shè)備技術(shù)”營(yíng)業(yè)秘密資料，清查是陳姓員工竊取。
來源：參考消息網(wǎng)
